هواوی ظاهرا قصد دارد کسبوکار تراشه خود را توسعه دهند و تراشههای زیر ۱۰ نانومتری بسازد.
طبق پتنتی که این شرکت بهتازگی ثبت کرده است به یک فناوری لیتوگرافی جدید با پروسههای زیر ۱۰ نانومتر اشاره شده است. ماشینهای لیتوگرافی پیچیدههای زیادی دارند و هزینه ساخت آنها بسیار بالاست.
پتنت جدید هواوی توانسته مشکل الگوهای تداخلی را که توسط نور فرابنفش در لیتوگرافی EUV ایجاد میشوند برطرف کند تا از این طریق بتواند وافرهای یکنواختتری ایجاد کند.
- هواوی به دنبال توسعه شبکه ۵.5G با سرعت ۱۰ گیگابیت بر ثانیه است
- هواوی میت ۵۰ و میت ۵۰ پرو با تراشه اسنپدراگون ۸ نسل ۱ پلاس معرفی شدند
این تکنولوژی شامل آرایهای از آینهها میشود که نور فرابنفش را به چندین نور جزئی تقسیم میکند تا الگوهای مختلفی بدون تداخل ایجاد کند. بد نیست بدانید که در حال حاضر ماشینهای EUV فقط توسط شرکت هلندی ASML تولید میشوند، اما حالا هواوی توانسته یکی از این ماشینها را با قابلیت طراحی تراشههای زیر ۱۰ نانومتری بسازد.
شرکت ASML بیش از ۱۷ سال است که در این حوزه فعال است و تاکنون ۶ میلیارد دلار در آن سرمایهگذاری کرده است. این شرکت تحت فشارهای آمریکا صادرات تجهیزات خود به شرکتهای چینی از جمله هواوی را متوقف کرد و در حال حاضر فقط پنج شرکت اینتل، سامسونگ، TSMC، میکرون و SK Hynix از تجهیزات EUV این شرکت استفاده میکنند.
هواوی قبلا با شرکتهایی مثل TSMC نیز برای استفاده از فناوری لیتوگرافی EUV همکاری داشت اما تحریمهای آمریکا همه این همکاریها را ممنوع کرد و حالا هواوی توانسته بهلطف دانش بومی خود به فناوری لیتوگرافیهای زیر ۱۰ نانومتری دست یابد.
حالا باید متتظر بمانیم و ببینیم این شرکت چینی چه برنامههایی برای ساخت تراشههای جدید با استفاده از این لیتوگرافی دارد.
منبع: Techspot
نظرات